美国UDM AKLC300系列浓缩晶圆切削液
用于切片之后对光伏硅片进行清洗
去离子水/反渗透水:洗涤剂溶液比例– 1000:1至500:1
使用温度:45°C- 70°C
的湿润、清洁和冲洗功能
降低去离子水/反渗透水表面张力
可以清洁硅片表面的碳化硅(SiC)尘埃以及其他脏污
在切片以及去胶工序之后清除光伏硅片表面的铜和铁
可生物降解、无危害,可以很容易进行处置
生化需氧量(BOD) < 2.0 mg/L (BOD小于2.0 mg/L)
化学需氧量(COD) < 10.0 mg/L (COD小于10.0 mg/L)
联系人:陈先生
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