ICP等离子清洗机

简单介绍

ICP等离子清洗机采用电感耦合高密度等离子体(ICP)，能快速去除晶圆上之残留光阻(光刻胶)，达到晶圆表面洁净，具有蚀刻率高，无电极污染，离子能量低，不损伤基板等优点。

在集成电路或MEMS微纳米加工前道工序中，晶圆表面会涂上光刻胶，然后光刻，显影。但光刻胶只是圆形转化的媒介，当光刻机在光刻胶上形成纳米图形后，需要进行下一步的生长或刻蚀的工艺，之后需要用某种方法把光刻胶去除。等离子体去胶机可以实现此功能。它用射频或微波方式产生等离子体，同时通入氧气或其他气体，等离子体与光刻胶进行反应，形成气体被真空泵抽走。 

产品描述

>> 产品特点
ICP等离子清洗机采用电感耦合高密度等离子体(ICP)，能快速去除晶圆上之残留光阻(光刻胶)，达到晶圆表面洁净，ICP等离子清洗机具有蚀刻率高，无电极污染，离子能量低，不损伤基板等优点。
>> 应用产业
．残余光阻去除
．蓝膜残胶去除
．PSS 来料清洁制程
◆ 等离子发生器(美国MKS)
频率13.56MHZ,功率0-1000W连续调节,自动阻抗匹配,全电路保护,可连续长时间工作
◆ 控制系统
PLC触摸屏控制,采用欧姆龙、西门子等电器元件，性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式
◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制)
日本爱发科(ULVAC)机械真空泵 VDN901 (23L/S)
台湾气动真空角阀、充气阀、DN40不锈钢真空波纹管、德国英福康压力传感器
◆ 充气系统
美国MKS电子质量流量计(四路气体配制)
美国世伟洛克SWAGELOK气体管路及接口组件，德国双级减压阀
日本SMC及CKD高真空气阀组件