三光AOI设备 HX-G350;针对半导体先进封装晶圆切割前后Die表面缺陷、切割道缺陷及RDL缺陷检测
设备规格 | 技术参数 | ||
相机 | 2100万像素工业相机(可选5000W) | 产品厚度范围 | 0.1~5mm |
镜头 | 远心镜头 | 产品尺寸 | 50*50-350*250mm |
解析度 | 主镜头3um | 高度精度 | <1um(基于校正块) |
3D检测原理 | DFF/PSLM PMP | 检测速度 | 1-2S/FOV (根据不同测试模式) |
2D光源 | 多角度多分区三色2D光源(RGBW)及软件 | 基准点(Mark)搜寻速度 | 0.3S /个 |
系统 | Windows 10(64位)中文专业版 | 自动上下料 | 支持 |
电脑 | IPC服务器 i7 CPU 128G内存 | 一次放置料盒数 | 3-5个 |
测试项目 | 芯片异物检测 键合点检测 金线检测 框架检测 | 产品工艺边宽 | 小2mm |
追溯系统 | 支持自动生成Mapping ,上传SECS/GEM | 板弯补偿 | ±2mm |
选配件/Optional | 1D/2D Barcode扫描枪、三点照合功能; 离线编程软件、维修工作站 | 真空平台 | 支持 |
电气源 | 220V,50~60HZ 0.4-0.7MPa | 设备规格 | 2243 x 1000 x 1570 mm(不包含信号灯高度);1265 KG |
多重聚焦融合技术,可稳定还原 0.6 mil 金线三维形貌
配置 2100W 高速相机,像素分辨率高达 3 μm
业内的 AI 2.0 检测算法软件简单易用,集成自动编程功能
设备可检测碰线、塌丝、甩丝、断丝、漏焊、重焊、焊线高度、线线距离、沾污、划伤、异物、偏移、转角、翘片、有无、贴错芯片、崩边、崩角、多胶、少胶、爬胶高度……
晶圆表面脏污,残胶,划痕,切割道缺陷以及RDL缺陷检测
- 支持明场、暗场、Photolumination、透射多种照明方式
- 业内的 AI 2.0 检测算法
整面晶圆 Bump 高度及共面性量测
- 高速、的 Bump 高度量测系统
三光检验方法在电子芯片质量控制中扮演着至关重要的角色。通过这种检验方法,生产商可以在早期阶段发现并解决潜在的质量问题,从而提高产品的良率和可靠性。同时,这也有助于减少因芯片质量问题而导致的设备故障和性能下降,保障消费者的利益。
总之,三光检验方法是电子芯片生产过程中不可或缺的一环。通过严格执行这一检验流程,我们可以确保电子芯片的质量和性能达到行业标准,为现代电子设备的稳定运行提供有力保障。