设备简介
本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的理想设备。
应用领域
半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业领域。
技术参数
设备名称:1200度管式炉
设备型号:TF1200-80(GZK10-3)
炉管材质:石英管
炉管尺寸:80mm*1000mm(管径*管长)
加热区尺寸:440mm
恒温区尺寸:200mm
高温度:1200度
工作温度:≤1100度(连续)
工作电源:单相 220V 50/60Hz 3Kw
加温
加热元件:电阻丝,环形加热。
升温速率:10-15℃/min
测温
测温元件:N型热电偶
控温
温控仪表:数显仪表,智能化30段PID可编程控制。
控温精度:±1℃,超温报警
保温
保温材料:多晶氧化铝纤维材料,保温效果好,热能损耗少。
充气正压:≤ 0.02MPa
可通气体:惰性气体和还原性气体等。
法兰(炉管两端配有不锈钢密封CF法兰,包括精密针阀、指针式真空压力表、软管接头,若有特殊需求,可选配以下法兰)
1、聚四氟乙烯法兰,用于有腐蚀环境。
2、水冷法兰,用于防止密封圈老化。
3、KF法兰,用于更高真空需求。
真空(根本实际需要选配以下不同真空泵或真空系统)
1、标准旋片式机械真空泵,直插接口,极限真空可达50Pa。
2、DZK10-1低真空系统,KF接口,极限真空可达1*10-1Pa。
3、GZK10-3高真空系统,KF接口,极限真空可达1*10-3Pa。
打开方式:封闭式,炉管从两侧插入。
外形尺寸:1000*406*505(宽*深*高)mm
包装尺寸:1300*600*700mm
设备净重:60Kg
包装毛量:110kg
设备包箱:木箱+珍珠棉+防尘膜
发货物流:送货上门,不含卸货。
质 保 期:一年,相关耗材除外,如加热元件等易耗件
标准配件
坩埚钳1把、刚玉舟1只、炉钩1把、管堵2只、刚玉管1根、304法兰1套、密封圈4只、浮子流量计1只、耐高温手套1双、产品说明书1份、仪表说明书1份、保修证书1份。
可选配件
1、浮子或质子流量供气系统。
2、真空系统。
3、300W或500W等离子射频电源。
4、可选配移动炉架,将管式炉放置在炉架上。
注意事项
1、为了不影响设备正常使用寿命,请不要过快升降温(如需快速升温请提前告知,可提升加热系统)。
2、请不要往管内通入超过0.02MPa的气体压力。
3、本设备使用一段时间后,炉膛会出现微小裂纹,属于正常现象,不会影响使用,可向业务人员免费索取氧化铝涂层修补剂。
4、由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加。
5、进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击。
6、对于只对样品加热的实验(不抽真空不通气体),不建议使用时关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀。若需要关闭气阀对样品加热,您时刻关注压力表的指数(气压会随温度升降而变化),若压力表指数大于0.02MPa,立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)。
非标定制:
我厂可根据客户要求定制非标炉型,来满足客户实验工艺,如您对实验工艺不是很了解,也可寄样品到我厂,本厂建立了先进的客户实验中心,配备各个行业所需炉型,可供您实验与测试,以便您购买到更适合的产品。