平面抛光机抛光件表面踏遍研究

平面抛光机抛光件表面踏遍研究

    随着信息产业的迅速发展,对半导体器件、光学器件等的表面平整度提出了越来越高的要求。双面研磨/抛光技术是能使工件得到较高形状精度和表面精度的超精密加工主要方法。但是在双面研磨抛光加工中工件存在“塌边现象”,这导致工件的表面平整度变差。本文对双面研磨抛光中工件“塌边”这一问题进行研究,分析造成工件表面“塌边”的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。

抛光工艺

由除油→水洗→抛光→水洗→水洗组成，型材经除油后即放入抛光槽，经2-5分钟抛光后，可形成镜面，水洗后可直接氧化。该工艺的核心工序是抛光，去纹、镜面都在抛光槽完成。抛光具有铝耗低、型材光亮的优点，但抛光槽的NOx的逸出，造成严重的环境污染及操作工的身体伤害，同时，昂贵的化工原料成本等因素也制约了该工艺的推广。通观上述三种工艺，虽各有特点，但缺点也比较突出，如碱蚀铝耗高、碱渣多、工效低；酸蚀氟化物污染、型材发暗；抛光污染严重，成本过高等等。这些工艺要么污染了环境，要么浪费了铝资源，要么降低了铝材表面质量，亟待进行工艺改进。本公司推出的XY-Z整平光亮剂，正是为弥补上述三种前处理工艺的不足而精心设计的一种全新的表面处理技术。

平面抛光机的工作原理

摘要:平面抛光机的工作原理 平面抛光机的工作原理 　　平面抛光机把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛...