CVD真空管式炉

一、CVD真空管式炉概述

真空管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于粉体、电子、陶瓷等其它产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等

二、CVD真空管式炉特点

1、炉膛材料采用进口陶瓷纤维，呈现温场均衡、表面温度低、升温速率快、节能等优点；

2、电热元件采用进口高电阻合金丝，表面负荷高，发热速度快；

3、炉体两端采用不锈钢密封法兰，耐高温、耐腐蚀；

4、保护管采用高纯石英管 ，气管采用密封快接插头，安装方便；

5、炉体采用双层空气隔热技术，配有自动冷却风扇，降低炉体外壳温度；

6、控制系统采用进口40段程序控温，控温精度±1℃，移相触发、可控硅控制；

三、CVD真空管式炉参数

注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！