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厂家真空电阻烧结炉

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详细信息
产地:acx3225672118
  • 一、 设备基本原理及主要用途

  • 1. 设备用途

  • 适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。本设备具有可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高等特点。综合性能指标较高,处于国内水平。根据不同的使用气氛及使用温度,使用不同的加热元件,型号,对需在惰性气体环境下烧结的材料,本设备是一个非常好的选择,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

  • 二、 主要技术参数

  • 1. 加热功率:   5KW

  •     加热形式:   1400型硅碳棒

  •                        左右两面加热,温场均匀,能耗低

  •  升温速率建议:10℃/Min Max:20℃/Min

  • 1. 炉膛尺寸:    500mm*400mm*400mm(长方体)

  • 2. 外形尺寸:    4800mm*5300mm*5600mm(高/宽/长)

  • 3. 保温材料:    1400型高纯氧化铝微晶体纤维,保温性能好

  • 4. 装料方式:    前侧装料

  • 5. 气氛种类:    惰性气体(氮气,氩气)

  • 6. 常规中空度:  6.7x10^(-2) Pa

  • 7. 极限真空度:  6.7x10^(-3) Pa

  • 8. 极限充气压力:≤0.05Mpa

  • 9. 长期使用压力:≤0.04Mpa(微正压、表压)

  • 10. 控制精度:    ±1 ℃

  • 11. 热电偶型号:B型

  • 12. 温控控制:    30段程序控温系统,PID控制

  • 13. 内外层炉壳:  SECC钢板防锈处理,并经粉体烤漆处理

  • 14. 设备表面温度:≤60℃

  • 15. 数据导出系统:可通过USB将升降温工艺导出,曲线图显示

  • 一、 结构组成

  • 真空电阻炉主要由炉体、加热保温系统、真空系统、气氛控制系统、水冷系统、电器控制系统等组成。

          VRSF1200系列真空电阻炉:

  • VRSF12-10100*100*1000.005 Pa0.05 Pa1200℃1100℃1 KW单相 220V电阻丝K型
    VRSF12-30300*200*2000.005 Pa0.05 Pa1200℃1100℃4 KW单相 220V电阻丝K型
    VRSF12-40400*300*3000.005 Pa0.05 Pa1200℃1100℃9 KW三相 380V电阻丝K型
    VRSF12-50500*400*4000.005 Pa0.05 Pa1200℃1100℃15 KW三相 380V硅碳棒K型
    VRSF12-60600*600*6000.005 Pa0.05 Pa1200℃1100℃40 KW三相 380V硅碳棒K型

可根据客户实际使用温度、尺寸定制。








联系方式
  • 联系人: 翟瑞涛 先生
  • 职位: 业务经理
  • 真: 0512-13818927271
  • 电话: 0512-13818927271
  • 手机: 13818927271
  • 址: 江苏省 苏州市 昆山经济开发区六时泾路28号
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